INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

序號(hào)

指標(biāo)名稱

指標(biāo)參數(shù)

1

測(cè)試結(jié)構(gòu)

臥式雙端口；

2

測(cè)試口徑

大端口：有效口徑≥φ450mm；

小端口：有效口徑≥φ100mm；

3

相移方式

QPS波長(zhǎng)調(diào)諧相移或機(jī)械相移解相；

4

測(cè)試光源

波長(zhǎng)調(diào)諧相干光源，λ=632.8nm，相干長(zhǎng)度≥100m；

可選氦氖相干光源，λ=632.8nm（用于機(jī)械相移）

5

CCD指標(biāo)

可選分辨率≥1.2K×1.2K，或分辨率≥2.3K×2.3K，

或分辨率≥3.4K×3.4K；

6

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)楔形鏡（TF鏡）

標(biāo)準(zhǔn)面面形：PVr優(yōu)于λ/20，中頻誤差PSD1小于0.9nm，進(jìn)口熔石英材料；

7

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)反射鏡（RF鏡）

標(biāo)準(zhǔn)反射面面形：PVr優(yōu)于λ/20，中頻誤差PSD1小于0.9nm，進(jìn)口微晶材料；

8

系統(tǒng)傳遞函數(shù)

ITF ≥ 0.7 @ 0.4 mm^-1（φ450mm大端口系統(tǒng)）；

9

系統(tǒng)精度

系統(tǒng)精度：系統(tǒng)空腔精度PVr優(yōu)于λ/15，中頻誤差PSD1小于0.9nm（φ800mm有效口徑內(nèi)）；

10

系統(tǒng)重復(fù)性精度

系統(tǒng)重復(fù)性精度：系統(tǒng)RMS重復(fù)性優(yōu)于λ/2000（2σ）；

11

調(diào)焦范圍

調(diào)焦范圍：光瞳調(diào)焦范圍≥±2m；

12

ZOOM變焦

1-6X光學(xué)變焦（1.2K）

或1X光學(xué)變焦，50X數(shù)字變焦(2.3K/3.4K)；

13

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度：快對(duì)準(zhǔn)與精密對(duì)準(zhǔn)方式，對(duì)準(zhǔn)角度≥±15°/±3°；

14

波長(zhǎng)調(diào)諧相移分析軟件

輸出峰谷值（PV）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（RMS）、等高圖、X-Y剖面圖、三維立體圖、干涉條紋圖、MTF(光學(xué)傳遞函數(shù))、PSF(點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù))，澤爾尼科多項(xiàng)式分析、賽德爾相差分析等；

分析軟件可進(jìn)行矩形、橢圓、正方形、圓、多邊形等數(shù)據(jù)分析功能；

平行平板類元件測(cè)試功能（樣品無需特殊處理），一次干涉條紋數(shù)據(jù)采集可同時(shí)得到，平行平板前表面面形、后表面面形，光學(xué)厚度變化；

具有材料均勻性測(cè)試分析功能；

15

標(biāo)準(zhǔn)反射鏡支撐調(diào)節(jié)

二維手動(dòng)與電控角度調(diào)節(jié)，整體結(jié)構(gòu)氣浮大范圍移動(dòng)；

16

測(cè)試工裝

兩維角度調(diào)節(jié)，一維平移調(diào)節(jié)，大范圍氣浮調(diào)節(jié)；

17

氣浮隔振平臺(tái)

隔振平臺(tái)，尺寸≤3800mm×1500mm