離子濺射蒸碳儀（磁控靶）庫號：M413872

離子濺射蒸碳儀（磁控靶）庫號：M413872離子濺射蒸碳儀（磁控靶）庫號：M413872

一、雙功能技術原理
噴金噴碳儀集成直流濺射與碳纖維繩熱蒸發蒸碳雙功能，屬于物理|氣相沉積（PVD）復合技術范疇，是通用單一功能設備無法替代的方案。噴金功能采用直流濺射原理，在≤4×10?2mbar低真空環境下，氬氣被電離產生等離子體，正離子高速轟擊鉑靶表面，使鉑原子均勻沉積形成致密導電薄膜；噴碳功能采用定制化碳纖維繩熱蒸發技術，通過28V高壓、100A大電流瞬時加熱碳纖維繩，使其快速蒸發并沉積為CHAO薄碳膜，膜層厚度可通過0-1s精ZHUN定SHI控制。雙功能共享一套真空系統與控制系統，無需換設備即可完成兩種預處理工藝，大幅提升樣品處理效率與兼容性。
二、應用場景
科研檢測領域
適配掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）樣品預處理，噴金適用于陶瓷、塑料等常規絕緣樣品，噴碳針對生物組織、CHAO薄材料、冷凍樣品等熱敏/對膜厚敏感的樣品，可避免電子積累與樣品SUN傷，保障高倍鏡下成像，是考古文物、生物樣本微觀分析的設備。
材料領域
用于高分子材料、納米材料、碳纖維復合材料的表面改性，噴碳可制備高附著力碳膜，提升材料導電性與光熱轉化效率；噴金可制備貴金屬電極，適配傳感器、光電器件等需求，兼顧多材料、多場景實驗需求。
生物YI LIAO領域
針對含水生物樣品、YI用耗材進行預處理，噴碳膜層薄且生物相容性佳，可避免影響樣品活性；噴金用于XUE糖儀試紙、生物傳感器等耗材的電極制備，保障檢測信號穩定傳輸，適配與。
高校教學領域
適配材料、電子、生物教學與科研，可直觀展示濺射與熱蒸發兩種PVD技術原理，設備操作簡單、體積小巧，能快速完成小批量樣品實驗，兼顧教學演示與科研創新需求，是復合型教學設備。
三、技術參數
參數類別 詳細規格
整機結構 1、采用主機+副機分體式設計，
主機尺寸300mm×360mm×380mm、
副機300mm×360mm×140mm（W×D×H），
2、總重40Kg，副機承載熱蒸發模塊，主機集成濺射與真空系統，布局優化且占用空間0.22㎡，較同類復合設備體積縮減40%，適配實驗室緊湊空間，一體化復合結構無通用替代方案。
樣品室與雙功能系統 1、樣品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸鹽玻璃，可實時觀察雙功能鍍膜過程，玻璃經防濺射涂層處理，避免靶材/碳粉附著影響視野。
2、濺射面積Φ50mm（匹配小型樣品），蒸碳面積140mm（適配大面積樣品），雙功能工位較單一功能設備兼容性提升一倍。
靶材與蒸發材料 1、標配Φ50mm×0.1mm高純度鉑（Pt）靶材（純度99.99---%），與濺射靶一體化設計，濺射均勻性偏差≤±3%；蒸發材料采用碳纖維繩，耐高溫、蒸發速率穩定，相較于石墨蒸發源，碳膜純度、附著力，且與熱蒸發模塊適配，通用材料無法達到同等蒸碳效果。
濺射與蒸碳控制參數 1、濺射參數：電壓-1600DCV，
電流50mA，
電流穩定度±0.1mA，
標準濺射速率40nm/分鐘，
0-999s定SHI器秒JI調控；
2、蒸碳參數：電壓28V，
電流100A，
0-1s SHUN時加熱控制，
可精ZHUN制備10-50nm CHAO薄碳膜。
3、雙功能參數獨立存儲、聯動控制，控制系統可避免參數干擾，通用設備無法實現雙功能協同。
真空與氣路系統 4、皮拉尼真空計，測量范圍1×10?3-1×103mbar，針對雙功能場景校準，顯示精度±0.01mbar，可穩定維持≤4×10?2mbar工作真空度；微型真空氣閥可連接φ3mm軟管，可連通惰性氣體提高成膜質量，密封性經測試（漏率≤1×10??mbar·L/s），保障雙功能真空環境穩定性。
動力與冷卻系統 1、標配2L/S機械泵，與雙功能系統適配性JIA，運行噪音≤55dB，從大氣抽至工作真空度需3-5分鐘；
2、冷卻系統標配風冷，效率較通用風冷提升25%。注：若單次濺射CHAO 3分鐘或制備厚膜，建議加裝原廠電冷裝置，控溫保護樣品與設備。
靶體配置 1、標配二極直流濺射靶，滿足常規噴金需求；
2、選配磁控靶（適配后濺射電流可達100mA），磁控靶采用磁路設計，濺射速率較二極靶提升30%。