F20單點膜厚測量儀

KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產品，可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍 1nm 到mm 級。

測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。 因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更*透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的，而橢偏儀側重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。

主要應用

測量厚度、折射率、反射率和穿透率：

• 單層膜或多層膜疊加
• 單一膜層
• 液態膜或空氣層

技術能力

光譜波長范圍：190-1700 nm

厚度測量范圍：1nm-250 μm

測量n&k最小厚度：50 nm

準確度：取較大值，1nm 或 0.2%

精度：0.02nm

穩定性：0.05nm

光斑大小：1.5mm

樣品尺寸：直徑從 1mm 到 300mm 或更大