Inprentus衍射光柵EUV

Inprentus可為EUV應用提供定制的主光柵，在這些應用中，優化光學效率、儀器緊湊性和性能是下一代處理實驗室的任務。Inprentus 能夠利用高可變線間距 (VLS) 制造具有強聚焦能力的衍射光柵。這使得光斑尺寸更小，工作波長的光線更明亮。衍射光柵可在設計波長內外使用，具有多種尺寸和規格，可實現緊湊型儀器設計和升級。Inprentus 還與客戶密切合作，在光柵母版中提供定制的熾熱角，以便在現有儀器或下一代儀器升級中實現直接替換。

現代化的衍射光柵機械固定方法

效率高和聚焦效果好

利用高可變線間距（VLS）制造具有強聚焦能力的衍射光柵

優化減小光斑尺寸

可在設計波長內外使用

實現緊湊型儀器設計和升級

提供定制的熾熱角

產地：美國

熾熱角：0.1° 到 80° 不等

VLS - 可變線間距 (VLS)

埃歇爾光柵類型：埃歇爾光柵

判讀：在凹面、環面、橢圓面等曲面基底上進行

分辨率：超過 100,000（取決于其他規格）

基底和涂層：高損傷閾值

尺寸： 500 x 200 毫米

線密度：50 到 3000 升/毫米

表面：硅或熔融石英基底的鍍金（Au）

單色儀、反射儀、散射儀等，光發射光譜、X 射線和紫外線衍射光學以及各種激光光學應用。